陆见这几年虽然很忙，但一直没有落下过填充知识，他能混到现在这个阶段，不仅是因为他有前世的经历和知识，更是因为他来到这边之后一直没有放弃学习，他这么多年来读书的数量自己都记不清了。

陆见到研究所阅读室的时候里面零星有几个人在，这边计算机研究所，里面的资料自然是同计算机相关的，自从前几年花国同m国y国r国之类的发达国家建立正常的外交关系之后，他们对外交往算是比较正常了，花国在不少国家都建立了外交领事馆。所以他们现在也能收到不少国外的最新的研究资料，当然这些资料都是对外公开的消息，高尖端的技术自然是保密的。还有一些技术涉及到部分关键数据也是保密的。不过陆见到不是很在意，在他那个时代，很多保密技术早就已经落后了，更多保密技术保密的是它的研究方向。

陆见经常来阅读室，很快就来到一个地方，找到同光刻机会有关系的技术资料。

光刻机的核心就是曝光机，整个机器将是将掩膜对准曝光机，利用模版将晶圆表面的保护膜去除掉，使用光制作一个图形。

曝光机大概有三种技术，按照使用时间的跨度，第一种是接触式曝光，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率差不多，设备很简单，但是很容易造成掩膜板的磨损，使用寿命也很低。之前很多地方都是用这种，但现在已经快被淘汰了。第二种就是接近式曝光，也就是这种技术替代了第一种方式，这种掩膜板和光刻胶的基底层会留下一个微乎其微的空隙，这样也就减少了掩膜板的磨损。

第三种就是投影式曝光，在掩膜板和光刻胶之间使用光学系统，就像陆见他们之前制作芯片的方式一样，当然呢这种技术也是最复杂的哪一种，从扫描投影曝光到步进重复投影曝光，到最后已经变成了扫描步进投影曝光，掩膜板和需要转移图案的尺寸比例从1:1变成了4:1。掩膜板的制作难度也减少了很多，掩膜板上面图案的缺陷的影响也减小了很多。

不过现在国外大多能使用的都是接近式曝光，然后就是投影式曝光中的扫描投影曝光。花国如果想要突破的话最好是将后面两种研究出来，只不过难度还是很大的。不过这些都应该是光学研究所和芯片研究所要操心的事情，陆见他们这次应该设置控制系统还有探测系统之类的，当然有机会说不定也会帮着做一些机械方面的工作。

陆见对光学这一块没有研究，记得上面这一些还是前世的时候有去查过资料，毕竟21世纪，芯片实在是太重要了，要知道后世的时候m国为了限制花国芯片的发展，可是使出了百般手段想要遏本站随时可能失效记住:

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